FAB国产替代进程如何了,工程师怎么看?
日期:2025-09-27 21:44:40 / 人气:24
国外厂商曾占主导
国产替代需求催生机遇
国内半导体设备行业国产化进程现状
各环节国产化率差异大
前道工艺设备
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光刻机:2024年国内光刻机市场规模超400亿元,但国产化率仅2.5%,ASML、Nikon、Canon引领全球,国内中低端制程(90nm - 65nm)已初步量产,高端领域(28nm以下)高度依赖进口。 -
刻蚀机:国产化率约20% - 30%,LAM、TEL、AMAT引领全球,国内主要有中微公司和北方华创。 -
薄膜沉积设备:国产化率约22.7%,AMAT、LAM、TEL引领全球,国内有北方华创、拓荆科技等。 -
离子注入机:国产化率低于5%,长期被AMAT和Axcelis垄断,国内有凯世通(万业企业旗下)等。 -
化学机械抛光(CMP)设备:国产化率约16.5%,AMAT、Revasum、Ebara引领全球,国内有华海清科等。 -
清洗设备:国产化率约35%,DNS、TEL、KLA、LAM引领全球,国内有盛美上海、至纯科技等。 -
测量与检测设备:国产化率不足5%,长期被KLA、AMAT、日立等垄断,国内40余家企业多集中低端市场,高端设备因核心零部件禁运、研发周期长等问题进展缓慢,有中科飞测等。 -
热处理设备:国产化率在20% - 25%之间,AMAT、TEL引领全球,国内有北方华创和屹唐半导体。
后道工艺设备
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划片机:国产化率在10% - 20%之间,日本Disco占据70%份额,国内有光力科技等。 -
晶圆减薄机:国产化率在5% - 10%之间,日本DISCO和东京精密合计市占率(CR2)达70%左右,国内有华海清科等。 -
引线键合机:国产化率约20% - 30%,美国K&S、ASMPT占据全球80%以上市场份额,国内有中电45所等。 -
探针台:国产化率在20%左右,东京精密、东京电子主导全球市场,国内有矽电股份。 -
测试机:国产化率在25%左右,泰瑞达、爱德万、科休主导全球,国内有广立微等。 -
分选机:国产化率在35%左右,科休、爱德万、ASM主导全球,国内有长川科技等。
制造软件
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制造类EDA:由Synopsys、Cadence、Siemens EDA主导全球市场,我国掩膜版校准有培风图南等,2024年国家大基金投资4家EDA企业。 -
CIM:AMAT和IBM主导全球,国内有喆塔科技等。
工程师看法不一
短期向好但竞争将加剧
创业机会有限
设备验证严格,难以超越头部
关注新需求
作者:杏宇娱乐
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